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射频辉光放电光谱仪
上传时间:2017年08月10日

解密镀层工艺、解析镀层结构——Profiler 2



辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段,可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息,从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳极、光学玻璃、核材料等。


 


GD-Profiler 2 作为超快镀层分析的理想工具,非常适合于导体和非导体复合镀层的分析,操作简单、便于维护,是镀层材料研发、质控的理想工具。


· 使用脉冲式射频辉光源,可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。

·  采用多项专利技术,如高动态检测器(HDD),可测试ppm-100%的浓度范围,专利Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm等。

·  分析速度快(2-10nm/s)

 


技术参数:

1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短,表面信息无任何失真。

2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜,也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。

3、Polyscan多道(同时)光谱仪可全谱覆盖,光谱范围从110nm-800nm,可测试远紫外元素C、H、O、N和Cl。

4、HORIBA的原版离子刻蚀全息光栅保证了仪器拥有最大的光通量,因而拥有卓越的光效率和灵敏度。

5、高动态检测器(HDD)可快速、高灵敏的检测ppm-100%含量的元素。动态范围为5×1010

6、宽大的样品室方便各类样品的加载。

7、功能强大的Quantum软件可以灵活方便的输出各种格式的检测报告。

8、HORIBA独有的单色仪(选配)可极大地提高仪器灵活性,可实现固定通道外任意一个元素的同步测试,称为n+1。

9、适用于ISO14707和16962标准。


仪器原理:

辉光放电腔室内充满低压氩气,当施加在放电两极的电压达到一定值,超过激发氩气所需的能量即可形成辉光放电,放电气体离解为正电荷离子和自由电子。在电场的作用下,正电荷离子加速轰击到(阴极)样品表面,产生阴极溅射。在放电区域内,溅射的元素原子与电子相互碰撞被激化而发光。



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